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巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)剖析:如何突破Micro LED顯示器制程難題?

2023-03-28 11:02 作者:CINNOResearch  | 我要投稿

相比傳統(tǒng)LCD、OLED,Micro LED具有高解析度、低功耗、高亮度、高對(duì)比、高色彩飽和度、反應(yīng)速度快、厚度薄、壽命長等特性,被認(rèn)為是未來顯示技術(shù)的主流方向,在VR/AR、高清、柔性、穿戴式等顯示領(lǐng)域有著極高的應(yīng)用潛力。

Micro LED顯示器是由數(shù)百萬個(gè)三色RGB芯片組成的。通常來說,受限于外延生長技術(shù),在大面積外延基板上同時(shí)生長高質(zhì)量的三色RGB芯片極為困難,因此需要將生長在外延基板上數(shù)百萬甚至數(shù)千萬顆微米級(jí)的三色RGB芯片依次轉(zhuǎn)移到驅(qū)動(dòng)電路基板上,實(shí)現(xiàn)RGB排布。

三色RGB芯片轉(zhuǎn)移示意圖

然而,由于Micro LED的特征尺寸小于100μm,傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)在轉(zhuǎn)移效率、轉(zhuǎn)移精度上很難達(dá)到要求。傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)對(duì)單顆芯片的尺寸要求存在物理極限,芯片太小無法轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)移精度也難以滿足;機(jī)械臂在芯片轉(zhuǎn)移的過程中也存在時(shí)間極限,轉(zhuǎn)移效率難以提高,這意味著傳統(tǒng)轉(zhuǎn)移技術(shù)及設(shè)備已無法適配Micro LED轉(zhuǎn)移制程。

面對(duì)以上技術(shù)挑戰(zhàn),為實(shí)現(xiàn)快速且精準(zhǔn)地轉(zhuǎn)移及減少后續(xù)檢修壓力,巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。Micro LED巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)已被證明是能夠克服組裝Micro LED芯片極端要求的有效解決方案。Micro LED巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備是采用激光轉(zhuǎn)移技術(shù),利用特殊整形后的方形光斑,結(jié)合高速振鏡掃描,可以實(shí)現(xiàn)高速加工,將微米級(jí)Micro LED芯片逐一轉(zhuǎn)移到下層基板(玻璃或者膜材)上。Micro LED巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備是Micro LED生產(chǎn)過程中的核心裝備之一,是影響Micro LED的良率與制造成本的關(guān)鍵。

Micro LED激光巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)示意圖

大族半導(dǎo)體自2019年開始對(duì)激光巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)進(jìn)行布局,探索應(yīng)對(duì)Micro LED芯片轉(zhuǎn)移要求的關(guān)鍵解決方案,于2021年11月,自主研發(fā)并推出國內(nèi)首臺(tái)固體Micro LED激光巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備;于2022年10月,自主研發(fā)并推出國內(nèi)首臺(tái)準(zhǔn)分子Micro LED激光巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備,均通過頭部客戶驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)銷售。

Micro LED激光巨量轉(zhuǎn)移設(shè)備

設(shè)備特點(diǎn):

  • 利用整形后的光斑,選擇性的將芯片轉(zhuǎn)移到下基板;

  • 芯片落位精準(zhǔn),且無損傷;

  • 可以實(shí)現(xiàn)全部轉(zhuǎn)移和任意位置的轉(zhuǎn)移。

加工效果:

大族半導(dǎo)體將持續(xù)憑借相對(duì)全面的布局與整合能力,為Micro LED提高更強(qiáng)的核心競(jìng)爭(zhēng)力,加快Micro LED商業(yè)化發(fā)展步伐。未來,大族半導(dǎo)體也將不斷優(yōu)化產(chǎn)業(yè)布局與完善自身產(chǎn)品結(jié)構(gòu),堅(jiān)持對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)始終如一的高標(biāo)準(zhǔn)、嚴(yán)要求,持續(xù)自主創(chuàng)新發(fā)展理念,與行業(yè)共同進(jìn)步,協(xié)同發(fā)展。


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