專利挖掘過(guò)程要避免的常見(jiàn)誤區(qū)

誤區(qū)一：專利的技術(shù)含量必須很高

專利能否獲得授權(quán)是專利法對(duì)于專利的審查標(biāo)準(zhǔn)(新穎性、創(chuàng)造性等)，不是該專利能否符合國(guó)家的技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)要求，也不是“技術(shù)含量”的高低。

誤區(qū)二：簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)不能報(bào)專利

許多技術(shù)人員認(rèn)為產(chǎn)品做了一點(diǎn)改進(jìn)，或做了一些技術(shù)改造，或者產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)很簡(jiǎn)單，所以申請(qǐng)不了專利，這是對(duì)專利申請(qǐng)與審批的誤解。其實(shí)，簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該通過(guò)專利進(jìn)行保護(hù)，防止競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手仿制。

誤區(qū)三：必須做出了樣品、或者技術(shù)方案已經(jīng)經(jīng)過(guò)驗(yàn)證

發(fā)明、實(shí)用新型保護(hù)的是技術(shù)方案，并不需要做出樣品或樣機(jī)去論證技術(shù)方案的成功結(jié)果，只要本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠合理推理得到即可。

誤區(qū)四：1個(gè)產(chǎn)品1件專利

一般而言，新產(chǎn)品的研發(fā)過(guò)程需要攻克多項(xiàng)技術(shù)點(diǎn)，可形成多件專利。