中頻鍍膜電源是一種常用于磁控鍍膜的電源類型，其參數(shù)包括頻率、電壓、電流和功率等。

1、頻率：中頻鍍膜電源的頻率通常在幾十千赫茲（kHz）至幾百千赫茲（kHz）之間，常見的頻率為40 kHz至100 kHz。中頻電源的高頻率可以提供更高的能量轉(zhuǎn)移效率，從而提高鍍膜的質(zhì)量和速率。

2、電壓：中頻鍍膜電源的輸出電壓一般在幾百伏至幾千伏之間，具體的電壓取決于所使用的材料和鍍膜設(shè)備的要求。中頻電源的輸出電壓通常比直流（DC）電源低，因此可以降低膜層的應(yīng)力和提高附著力。

3、電流：中頻鍍膜電源的輸出電流一般在幾十毫安至幾百毫安之間。中頻電源的輸出電流相對較大，可以提供足夠的離子束能量，從而實現(xiàn)較快的鍍膜速率。

4、功率：中頻鍍膜電源的功率是電壓和電流的乘積，一般以瓦特（W）為單位。具體的功率取決于所使用的材料和鍍膜設(shè)備的要求。中頻電源的功率通常較高，可以提供足夠的能量來實現(xiàn)高效的鍍膜過程。

需要注意的是，具體的電源參數(shù)會根據(jù)不同的中頻鍍膜設(shè)備和材料要求而有所不同。在選擇和使用中頻電源時，需要根據(jù)實際情況進行調(diào)整和配置。中頻鍍膜電源是一種常用于磁控鍍膜的電源類型，其參數(shù)包括頻率、電壓、電流和功率等。