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MOSFET的失效機理:dV/dt失效和雪崩失效

2023-08-16 23:56 作者:哇噠西哇海岸線桑  | 我要投稿

本文的關(guān)鍵要點

?當(dāng)向MOSFET施加高于絕對最大額定值BVDSS的電壓時,會造成擊穿并引發(fā)雪崩擊穿。
??發(fā)生雪崩擊穿時,會流過大電流,存在MOSFET失效的危險。
??MOSFET雪崩失效包括短路造成的失效和熱量造成的失效。
?dV/dt失效是MOSFET關(guān)斷時流經(jīng)寄生電容Cds的充電電流流過基極電阻RB,使寄生雙極晶體管導(dǎo)通而引起短路從而造成失效的現(xiàn)象。
?dV/dt是單位時間內(nèi)的電壓變化量,VDS的上升坡度越陡,越容易發(fā)生MOSFET的dV/dt失效問題。
?一般來說,反向恢復(fù)特性越差,dV/dt的坡度越陡,越容易產(chǎn)生MOSFET的dV/dt失效。

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什么是雪崩擊穿


當(dāng)向MOSFET施加高于絕對最大額定值BVDSS的電壓時,就會發(fā)生擊穿。當(dāng)施加高于BVDSS的高電場時,自由電子被加速并帶有很大的能量。這會導(dǎo)致碰撞電離,從而產(chǎn)生電子-空穴對。這種電子-空穴對呈雪崩式增加的現(xiàn)象稱為“雪崩擊穿”。在這種雪崩擊穿期間,與 MOSFET內(nèi)部二極管電流呈反方向流動的電流稱為“雪崩電流IAS”,參見下圖(1)。

MOSFET的雪崩失效電流路徑示意圖(紅色部分)

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雪崩失效:短路造成的失效


如上圖所示,IAS會流經(jīng)MOSFET的基極寄生電阻RB。此時,寄生雙極型晶體管的基極和發(fā)射極之間會產(chǎn)生電位差VBE,如果該電位差較大,則寄生雙極晶體管可能會變?yōu)閷?dǎo)通狀態(tài)。一旦這個寄生雙極晶體管導(dǎo)通,就會流過大電流,MOSFET可能會因短路而失效。

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雪崩失效:熱量造成的失效


在雪崩擊穿期間,不僅會發(fā)生由雪崩電流導(dǎo)致寄生雙極晶體管誤導(dǎo)通而造成的短路和損壞,還會發(fā)生由傳導(dǎo)損耗帶來的熱量造成的損壞。如前所述,當(dāng)MOSFET處于擊穿狀態(tài)時會流過雪崩電流。在這種狀態(tài)下,BVDSS被施加到MOSFET并且流過雪崩電流,它們的乘積成為功率損耗。這種功率損耗稱為“雪崩能量EAS”。雪崩測試電路及其測試結(jié)果的波形如下圖所示。此外,雪崩能量可以通過公式(1)來表示。

雪崩測試的電路簡圖

雪崩測試中MOSFET的電壓和電流波形


雪崩能量公式


一般情況下,有抗雪崩保證的MOSFET,在其規(guī)格書中會規(guī)定IAS和EAS的絕對最大額定值,因此可以通過規(guī)格書來了解詳細的值。在有雪崩電流流動的工作環(huán)境中,需要把握IAS和EAS的實際值,并在絕對最大額定值范圍內(nèi)使用。
引發(fā)雪崩擊穿的例子包括反激式轉(zhuǎn)換器中的MOSFET關(guān)斷時的反激電壓和寄生電感引起的浪涌電壓等。針對反激電壓引起的雪崩擊穿,對策包括在設(shè)計電路時采用降低反激電壓的設(shè)計或使用具有更高耐壓性能的MOSFET。而針對寄生電感引起的雪崩擊穿,改用引腳更短的封裝的MOSFET或改善電路板布局以降低寄生電感等都是比較有效的措施。

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什么是dV/dt失效


如下圖(2)所示,dV/dt失效是由于MOSFET關(guān)斷時流經(jīng)寄生電容Cds的瞬態(tài)充電電流流過基極電阻RB,導(dǎo)致寄生雙極晶體管的基極和發(fā)射極之間產(chǎn)生電位差VBE,使寄生雙極晶體管導(dǎo)通,引起短路并造成失效的現(xiàn)象。通常,dV/dt越大(越陡),VBE的電位差就越大,寄生雙極晶體管越容易導(dǎo)通,從而越容易發(fā)生失效問題。

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MOSFET的dV/dt失效電流路徑示意圖(藍色部分)



此外,在逆變器電路或Totem-Pole PFC等上下橋結(jié)構(gòu)的電路中,反向恢復(fù)電流Irr會流過MOSFET。受該反向恢復(fù)電流影響的dV/dt,可能會使寄生雙極晶體管誤導(dǎo)通,這一點需要注意。dV/dt失效與反向恢復(fù)特性之間的關(guān)系可以通過雙脈沖測試來確認。雙脈沖測試的電路簡圖如下:

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雙脈沖測試的電路簡圖

dV/dt和反向恢復(fù)電流的仿真結(jié)果如下圖所示。設(shè)MOSFET①~③的柵極電阻RG和電源電壓VDD等電路條件相同,僅反向恢復(fù)特性不同。圖中列出了Q1從續(xù)流工作轉(zhuǎn)換到反向恢復(fù)工作時的漏源電壓VDS和漏極電流(內(nèi)部二極管電流)ID

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雙脈沖測試的仿真結(jié)果

一般情況下,與MOSFET①相比,MOSFET③可以說是“反向恢復(fù)特性較差(Irr和trr大)”的產(chǎn)品。從這個仿真結(jié)果可以看出,反向恢復(fù)特性越差,dV/dt的坡度就越陡峭。這一點通過流經(jīng)電容器的瞬態(tài)電流通常用I=C×dV/dt來表示也可以理解。此外,在上述仿真中,Irr的斜率(di/dt)均設(shè)置為相同條件,但當(dāng)di/dt陡峭時,dV/dt也會變陡峭。
綜上所述,可以說,在橋式電路中使用MOSFET時,反向恢復(fù)特性越差的MOSFET,發(fā)生MOSFET的dV/dt失效風(fēng)險越大。

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來源:網(wǎng)絡(luò)


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